久久精品国产99久久,欧美五码在线,一区二区三区日韩精品,亚洲国产视频a

　　JOLED是日本OLED面板制造公司，由Sony、松下、JDI和日本產(chǎn)業(yè)機(jī)構(gòu)在2015年1月合并而成，自其成立開(kāi)始，便帶有濃厚的神秘色彩。在16年9月舉辦的國(guó)際會(huì)議「International Conference on Flexible and Printed Electronics（2016年9月6～8日、山形大學(xué)）」上，JOLED公司的負(fù)責(zé)人對(duì)JOLED的現(xiàn)狀和未來(lái)發(fā)展規(guī)劃進(jìn)行了詳細(xì)的解說(shuō)。

　　JOLED的OLED技術(shù)

　　OLED成膜技術(shù)類(lèi)型

　　OLED面板發(fā)光層的成膜技術(shù)分為RGB打印、白光蒸鍍和RGB蒸鍍?nèi)N（圖1所示），其中RGB蒸鍍需要使用高精細(xì)度的金屬Fine Mask，適合智能手機(jī)等小尺寸面板的量產(chǎn)，而白光蒸鍍不使用Fine Mask，適合大尺寸面板的量產(chǎn)，但是白光OLED面板需要使用Color Filter對(duì)白光進(jìn)行過(guò)濾，會(huì)導(dǎo)致3／4光的損失，使面板的色純度與發(fā)光效率成為一對(duì)矛盾的參數(shù)。

　　圖1  OLED成膜技術(shù)比較（JOLED提供資料）

　　目前大多數(shù)OLED面板公司都采用蒸鍍技術(shù)，但蒸鍍制程需要真空環(huán)境和金屬M(fèi)ask，特別是RGB蒸鍍的方式，對(duì)金屬M(fèi)ask的精度要求很高，制造難度較大。另外，蒸鍍制程還存在TS距離、均勻性、材料利用率等問(wèn)題。

　　打印技術(shù)的特征

　　RGB噴墨打印是指在大氣環(huán)境下將RGB材料分別打印在基板上的技術(shù)，與蒸鍍技術(shù)不同，打印技術(shù)有很多優(yōu)點(diǎn)：

　　不需要真空環(huán)境，設(shè)備投資較少，保養(yǎng)維護(hù)也較為容易；

　　不需要mask，基板也不用面向下放置，生產(chǎn)大尺寸面板較容易；

　　使用溶劑型材料，材料很難噴濺到其他地方，材料利用率很高，有利于量產(chǎn)的成本節(jié)約；

　　噴頭通用性強(qiáng)，基板stage尺寸允許的情況下，設(shè)備能對(duì)應(yīng)不同尺寸的基板；

　　換線(xiàn)和保養(yǎng)時(shí)間短，能有效縮短生產(chǎn)節(jié)拍，提高生產(chǎn)效率。

　　目前JOLED正在開(kāi)發(fā)RGB三種顏色的打印技術(shù)，期望以其較高的生產(chǎn)效率來(lái)彌補(bǔ)蒸鍍技術(shù)的不足。但是打印使用的有機(jī)材料信賴(lài)性較差，為此JOLED特別制定了相應(yīng)的改善措施（如圖2所示）。從器件、制程、材料和設(shè)備的觀點(diǎn)出發(fā)，JOLED認(rèn)為亮度和壽命是首先要解決的問(wèn)題，制定了問(wèn)題改善的路線(xiàn)圖（如圖3所示）。

　　圖2 打印技術(shù)的改善對(duì)策（JOLED提供資料）

　　圖3 打印技術(shù)改善路線(xiàn)圖（JOLED提供資料）

　　對(duì)于器件的亮度，JOLED以其2013年時(shí)做到的值為基準(zhǔn)（一倍），今年已經(jīng)做到了兩倍，預(yù)計(jì)2018年可以做到三倍。目前打印技術(shù)的研究所在京都，但從2016年開(kāi)始轉(zhuǎn)移到石川縣，在那里建立一條4．5代（730mm×920mm）量產(chǎn)線(xiàn)，用于300PPI以上精細(xì)度打印OLED面板的量產(chǎn)。

　　背板技術(shù)

　　OLED與LCD不同，需要能通過(guò)大電流的TFT來(lái)做驅(qū)動(dòng)，a－Si（非晶硅技術(shù)）因?yàn)檩d流子遷移率太低，不適合做OLED的驅(qū)動(dòng)。目前適合作為OLED驅(qū)動(dòng)的TFT器件有LTPS（多晶硅技術(shù)）和IGZO（金屬氧化物技術(shù)）。

　　其中LTPS技術(shù)在大面積多晶硅形成上尚有一些問(wèn)題需要克服，而且整體生產(chǎn)成本較高，而IGZO技術(shù)的載流子遷移率雖然不及LTPS技術(shù)，但對(duì)于OLED也足夠用了，其最大的優(yōu)點(diǎn)就是在大面積生產(chǎn)時(shí)薄膜的均勻性較好，生產(chǎn)成本也相應(yīng)較低。目前JOLED主要開(kāi)發(fā)IGZO技術(shù)，但同時(shí)也在開(kāi)發(fā)新的TFT制造技術(shù)。

　　IGZO TFT

　　對(duì)IGZO性能的要求，大致可以分為以下6項(xiàng)（圖4所示）。

　　圖4 IGZO TFT的性能要求（JOLED提供資料）

　　（1）光罩道數(shù)

　　光罩道數(shù)不對(duì)設(shè)備投資、光罩?jǐn)?shù)量等這些無(wú)塵室相關(guān)項(xiàng)目有很大的影響，對(duì)成品良率影響也很大。因此，各家公司都想以盡可能少的光罩道數(shù)來(lái)實(shí)現(xiàn)高性能、高良率的TFT器件。JOLED的TFT技術(shù)是其前身之一的Sony開(kāi)發(fā)的整合型頂柵極構(gòu)造。

　　（2）載流子遷移率

　　OLED的驅(qū)動(dòng)類(lèi)型為電流驅(qū)動(dòng)，驅(qū)動(dòng)能力與載流子遷移率成正比，對(duì)于高精度和高開(kāi)口率的面板來(lái)講，必須使用高遷移率的TFT驅(qū)動(dòng)。但是IGZO的載流子遷移率比LTPS要低，而且只能實(shí)現(xiàn)N型構(gòu)造，無(wú)法制造出Si CMOS之類(lèi)的MOS管結(jié)構(gòu)，因此IGZO還存在周邊電路功耗的問(wèn)題。

　　（3）信賴(lài)性

　　圖5表示的是IGZO TFT的特性，可以看出基板面內(nèi)特性的均一性。一般來(lái)說(shuō)，濺射法使用的靶材容易有消耗不均勻的問(wèn)題，會(huì)導(dǎo)致基板面內(nèi)薄膜沉積的不均勻，最終使TFT特性在基板面內(nèi)有偏差。圖5中有Biasstress的測(cè)試結(jié)果，考慮到實(shí)際使用的情況，在光照射下的測(cè)試也是必要的。

　　圖5 IGZO TFT的特性

　　（4）基板尺寸

　　對(duì)于大尺寸基板來(lái)講，IGZO技術(shù)比LTPS技術(shù)節(jié)省制造成本。不同世代都存在一個(gè)最佳產(chǎn)品尺寸，所以對(duì)于不同世代來(lái)講IGZO和LTPS沒(méi)有可比性，但從投資角度來(lái)講，相同基板尺寸下IGZO的生產(chǎn)成本較低。另外對(duì)于模組成本來(lái)說(shuō)，IGZO與LTPS沒(méi)有太大的區(qū)別。

　　（5）生產(chǎn)性

　　IGZO制程較LTPS簡(jiǎn)單，在制造上來(lái)講生產(chǎn)性會(huì)高一些。

　　（6）均一性

　　為了保證大面積內(nèi)特性的均一性，除了膜厚以外，氧化物半導(dǎo)體的元素比例也需要精確控制（4種元素），成分控制與堆積速度是一對(duì)相互制約的參數(shù)，需要找出折中的最適合的值。