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　　平板顯示在生產(chǎn)過程中有許多薄膜制程，而鍍膜用的原材料——靶材就顯得非常重要。作為國內(nèi)第一個專業(yè)生產(chǎn)靶材的公司，歐萊集團周紀平博士在第十屆中國國際顯示大會做了“TFT靶材的生產(chǎn)和綁定技術(shù)”主題演講

　　                        歐萊集團周紀平博士

　　周紀平首先談到高層鉬靶的生產(chǎn)。據(jù)介紹，鉬是一種灰色的過渡金屬，屬于難熔金屬。鉬因具有優(yōu)良的導(dǎo)電性、熱穩(wěn)定性，且其熱脹系數(shù)與鍍膜玻璃接近，在平板顯示（FDP）領(lǐng)域被用作基電極涂層。在電子行業(yè)中，鉬濺射靶材主要用于平面顯示器、薄膜太陽能電池的電極和配線材料以及半導(dǎo)體的阻擋層材料。這些是基于鉬的高熔點、高電導(dǎo)率、較低的比阻抗、較好的耐腐蝕性以及良好的環(huán)保性能。以前平面顯示器的配線材料主要是鉻，但隨著平面顯示器的大型化和高精度化，越來越需要比阻抗小的材料，可使液晶顯示器在亮度、對比度、色彩以及壽命方面的性能大大提升。另外，環(huán)保也是必須考慮的問題。而鉬具有比阻抗和膜應(yīng)力僅為鉻的1 /2的優(yōu)勢，而且不存在環(huán)境污染問題，因此成為了平面顯示器濺射靶材的首選材料之一。

　　對于靶材的質(zhì)量要求，周紀平介紹，“靶材的化學(xué)要求是高純度，因為純度如果不高的話，鍍出來的膜會由于各種雜質(zhì)的存在影響薄膜的性能。行業(yè)認為高純度鉬靶至少得99.95%，甚至更高。靶材除了化學(xué)純度的要求以外，還有致密度的要求，如果致密度不好的話，由于內(nèi)部孔隙的存在，會造成微粒飛濺。這是靶材致密度高的腐蝕以后輪廓比較明顯，而如果靶材致密度不好，腐蝕以后輪廓就比較模糊。”

　　他也介紹，濺射鍍膜的過程中，致密度較小的濺射靶受轟擊時，由于靶材內(nèi)部孔隙內(nèi)存在的氣體突然釋放，造成大尺寸的靶材顆粒或微粒飛濺，或成膜之后膜材受二次電子轟擊造成微粒飛濺。這些微粒的出現(xiàn)會降低薄膜品質(zhì)。為了減少靶材固體中的氣孔，提高薄膜性能，一般要求濺射靶材具有較高的致密度。對鉬濺射靶材而言，其相對密度應(yīng)該在98%以上。而鋁靶也存在質(zhì)量要求，包括化學(xué)純度、致密度、尺寸公差等方面的數(shù)據(jù)要求。

　　周紀平介紹，綁定是釬焊劑將靶材和背板或背管連接起來，這是靶材綁定的質(zhì)量要求。“歐萊靶材至今為止已經(jīng)有十幾年的歷史，是國內(nèi)第一家專業(yè)生產(chǎn)靶材的公司。經(jīng)過最近四年的艱苦努力，8代液晶面板用大型靶材成功下線。近幾年歐萊靶材投資購買了很多用于提高生產(chǎn)能力和質(zhì)量的各種設(shè)備，包括萬噸冷等靜壓機、超高溫?zé)Y(jié)爐、真空中頻熔煉爐、空氣錘、熱軋機、大型真空熱處理爐等。

　　對于歐萊未來發(fā)展定位，周紀平介紹，“歐萊現(xiàn)正在致力于各種TFT行業(yè)用靶材的制造國產(chǎn)化工作。提高靶材產(chǎn)品質(zhì)量、降低用戶的靶材使用成本永遠是我們的責(zé)任。”